六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備的作用是勻膠前襯底“增附"處理。在光刻中，通常會用到一些例如藍寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底，這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想，這會導致后續(xù)的光刻顯影環(huán)節(jié)出現(xiàn)“裂紋"甚至是漂膠等問題。因此必須通過工藝手段改善，這個步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備的作用

    六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理的工藝是勻膠前襯底“增附"處理。在光刻中，通常會用到一些例如藍寶石、氮化鎵、砷化鎵甚至是貴金屬薄膜等襯底，這類襯底與光刻膠的粘附性往往不怎么理想，這會導致后續(xù)的光刻顯影環(huán)節(jié)出現(xiàn)“裂紋"甚至是漂膠等問題。因此必須通過工藝手段改善，這個步驟我們叫做增附處理或者叫做助黏。

六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理設備的性能  

HMDS藥液低液位報警：

自動吸取HMDS：

可自動添加HMDS：

HMDS藥液泄漏報警：

HMDS氣體管路加熱系統(tǒng)：

參數(shù)記錄功能：

溫度與程序互鎖功能：

容積大小：350*350*350/450*450*450/600*600*600（mm）可定制

溫度范圍：RT+10-250℃

真空度：≤133pa（1torr）       

控制系統(tǒng);人機界面+PLC

擱板層數(shù):2層

HMDS控制:可控制HMDS藥液的添加量

真空泵: 渦旋無油泵

不正確的六甲基二硅氮烷(HMDS)表面處理方法
 如果液體的HMDS被直接旋涂在襯底上，HMDS層只能起到物理上的粘附層的作用，并不能改善粘附性；其次，HMDS層在前烘過程中釋放出氨，從襯底附近的進入交聯(lián)的光刻膠層中，從而抑制顯影過程。