小型蒸發(fā)鍍膜儀，實(shí)驗(yàn)室氣相沉積設(shè)備用于真空蒸發(fā)鍍光學(xué)薄膜、有機(jī)物薄膜和金屬薄膜、在襯底上沉積各單層金屬膜，主要用于蒸鍍電極及有機(jī)半導(dǎo)體材料的物理化學(xué)性能研究實(shí)驗(yàn)研究。特別適合于高科技企業(yè)、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開(kāi)發(fā)。

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小型蒸發(fā)鍍膜儀，實(shí)驗(yàn)室氣相沉積設(shè)備用途

用于真空蒸發(fā)鍍光學(xué)薄膜、有機(jī)物薄膜和金屬薄膜、在襯底上沉積各單層金屬膜，主要用于蒸鍍電極及有機(jī)半導(dǎo)體材料的物理化學(xué)性能研究實(shí)驗(yàn)研究。特別適合于高科技企業(yè)、科研單位和高校用于膜層研究和膜系開(kāi)發(fā)。

小型蒸發(fā)鍍膜儀，實(shí)驗(yàn)室氣相沉積設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)

真空腔室尺寸：Φ300*H400mm,預(yù)留膜厚儀接口304不銹鋼材料，圓柱式，門上配有觀察窗；

真空系統(tǒng)：分子泵 +直聯(lián)旋片泵+高真閥門； “一低一高"數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)；

極限真空：真空極限優(yōu)于 5×10-5Pa ；

溫度范圍： RT-600/1600℃，可調(diào)可控；

基片臺(tái)尺寸：最大可鍍基片尺寸/面積：Φ100mm 范圍內(nèi)可裝卡各種規(guī)格配套相應(yīng)樣品架可固定各類不銹鋼掩膜板。

基片臺(tái)旋轉(zhuǎn):0-20 轉(zhuǎn)/分鐘，可調(diào)可控；

蒸發(fā)源及電源：水冷蒸發(fā)電極，金屬蒸發(fā)電源；

控制方式：PLC+觸摸屏,自動(dòng)控制；

報(bào)警及保護(hù)：對(duì)泵、電極等缺水、過(guò)流過(guò)壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施；完善的邏輯程序互鎖保護(hù)系統(tǒng)；

設(shè)備配電： AC220V/50HZ ,功率：3.5KW；

設(shè)備尺寸：長(zhǎng)×寬×高:500*360*420mm；

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