堅(jiān)膜烘箱，真空?qǐng)?jiān)膜烤箱用于半導(dǎo)體制造中半導(dǎo)體襯底片、硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料顯影后堅(jiān)膜烘烤；也適用于涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤以及電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。

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更新時(shí)間：2025-09-16
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堅(jiān)膜烘箱，真空?qǐng)?jiān)膜烤箱的用途：

堅(jiān)膜烘箱用于半導(dǎo)體制造中半導(dǎo)體襯底片、硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料顯影后堅(jiān)膜烘烤；也適用于涂膠前的預(yù)處理烘烤、涂膠后堅(jiān)膜烘烤和顯影后的高溫烘烤以及電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實(shí)驗(yàn)室等生產(chǎn)及科研部門。

1、*蒸發(fā)掉光刻膠里面的溶劑（以免在污染后續(xù)的離子注入環(huán)境，例如DNQ酚醛樹脂光刻膠中的氮會(huì)引起光刻膠局部爆裂）；

2、以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護(hù)下表面的能力；

3、進(jìn)一步增強(qiáng)光刻膠與硅片表面之間的黏附性；

4、進(jìn)一步減少駐波效應(yīng)。

堅(jiān)膜烘箱，真空?qǐng)?jiān)膜烤箱主要參數(shù)：

潔凈度：百級(jí)；

電源電壓：AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率：2000W

溫度范圍：RT+10℃-250℃

溫度分辨率：0.1℃

溫度波動(dòng)度：±0.5℃

達(dá)到真空度：133Pa（可選擇熱風(fēng)循環(huán)烤箱）

工作室尺寸（mm）：450*450*450

擱板層數(shù)：2層

設(shè)備采用先進(jìn)成熟的設(shè)計(jì)思想，制造技術(shù)。
設(shè)備在具有優(yōu)良的品質(zhì)，即可靠性要高，使用壽命長(zhǎng)。
設(shè)備具有良好的操作性，方便的維修性，可靠的安全性。

使用注意事項(xiàng)：

1、烘烤不足，會(huì)減弱光刻膠的強(qiáng)度（抗刻蝕能力和離子注入中的阻擋能力）；降低針孔填充能力；降低與基底的黏附能力。

2、烘烤過度，引起光刻膠的流動(dòng)，使圖形精度降低，分辨率變差。

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