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            技術(shù)文章

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            P產(chǎn)品分類RODUCT CATEGORY

            曝光后烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤的目的

            更新時間:2024-12-17      瀏覽次數(shù):1297
              光刻膠在曝光完成后,光刻膠需要經(jīng)過再一次烘烤,因為這次烘烤在曝光后,所以稱為“曝光后烘烤”,簡稱后烘或堅膜,英文為Post Exposure Bake(PEB)。
             
              曝光后烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤的目的--通過加熱的方式,使得光化學(xué)反應(yīng)能夠充分完成。
             
              對于酚醛樹脂體系的光刻膠,PEB可以擴散感光劑以消除駐波效應(yīng)。并且,PEB溫度不同時,感光劑的擴散距離不同,消除駐波的效果也不一樣。PEB在110度時,消除駐波效應(yīng)明顯。
             
              對于化學(xué)放大型光刻膠,在后烘過程中,光酸起到催化光刻膠樹脂的去保護反應(yīng)(Deprotection Reaction),又稱為脫保護反應(yīng)。
              大量實驗表明,烤膠臺烘烤溫度的起伏是影響線寬均勻性的主要因素之一。在設(shè)置后烘工藝時, 對熱盤溫度均勻性的要求一般比軟烘的要求更高。
             
              烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤性能
             
              智能型烤膠機
             
              加熱尺寸:220*220mm(可定制),適用于Ø200毫米(8英寸)圓片或200x 200毫米方片以下尺寸產(chǎn)品;
             
              溫度范圍:RT~300°C
             
              溫度精度:0.1°C;
             
              溫度均勻性:≤±0.5℃;
             
              電動頂針調(diào)節(jié)高度: 0~30mm;
             
              加熱臺表面:耐腐蝕硬質(zhì)陽極氧化鋁制成;
             
              控制器單元:7寸全彩觸摸屏,高級PLC控制,實現(xiàn)在特定時間內(nèi)自動升降,可以定時取片;
             
              潔凈烘箱
             
              無塵等級:Class100;
             
              溫度范圍:RT~300/450℃;
             
              溫度均勻度:200℃±3℃;
             
              溫度波動度:±0.5℃(空載)
             
              工作尺寸(mm):
             
              450×450×450
             
              500×500×500
             
              600×700×800(可定制)
             
              可擴展功能:
             
              氧濃度檢測,無塵無氧烘箱
             
              智能聯(lián)網(wǎng)功能,MES等工業(yè)自動化軟件
             
              掃碼槍,掃碼溯源,一鍵讀取
             
              自動門控,上位機程控,機械手搬運產(chǎn)品
             
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